第34章 不抢就换(1/3)

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　　陈进一想到张云似乎并非技术工程师的身份，还是耐心的解释了：

　　“这台SSA600/20采用的是193nm氟化氩深紫外光源。

　　它的曝光波长达到了28纳米，采用沉浸式光刻技术。

　　配合我们自研的双工作台系统，每小时能完成120片晶圆的曝光作业，套刻精度控制在3纳米以内。

　　它的光源系统用了我们自己研发的准分子激光器，稳定性比进口设备提升了15%。

　　而且重点零部件国产化率超过80%。

　　当然，和国际顶尖的5纳米光刻机比，还有差距。

　　但这已经是我们目前能拿出的最好成果了。

　　目前，我们还在集中攻克7纳米制程的量产问题。”

　　陈进一的话有些无奈，龙国的半导体行业，尤其是光刻机技术还是太落后了些。

　　谁都知道半导体领域想要突破，核心中的核心就是光刻机。

　　如今龙国大部分高端芯片，都需要依赖进口生产。

　　而且存在技术专利的问题，每年都要花上一大笔授权费用。

　　眼前这台机子已经是好几年前的产物了，光是7纳米级别的生产就已经卡了他们许多年。

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