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这话一出,魏天华直接呆愣在原地。
纳米正是EUV光刻机的核心参数,可严正行说不需要反射镜组?
要知道现在的EUV光刻机为了规避镜片吸收问题,光是高精度反射镜就用了11片。
每一片的制造难度都堪比艺术品,全球能生产的厂家不超过三家。
陈进一的眼睛里写满难以置信。
他也曾接触过顶尖光刻机研发,太清楚这个技术方向的颠覆性。
如果真能实现,等于绕开了EUV最卡脖子的供应链环节。
“这怎么可能?就算波长达标,能量密度、稳定性、持续工作时长……这些都是拦路虎啊!”
“我们试过用激光倍频技术逼近这个区间,结果设备开机半小时就因为过热报废了。”
望着对方难以置信的样子,严正行依旧是老样子:
“我可以保证,这种全新光源的转化效率将超过30%!
“30%?!”
陈进一猛地站起身,结果膝盖一不小心撞到桌上,疼得他龇牙咧嘴,但还是咬着牙道:
“这不可能!光源转化效率每提升1%都是天堑,您说的是理论值还是?”
要知道现在ASML的EUV光源转化效率还不到5%。
这意味着什么?
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